Frank, A.; Dias, M.; Hieke, S. W.; Kruth, A.; Scheu, C.: Spontaneous fluctuations in a plasma ion assisted deposition – correlation between deposition conditions and vanadium oxide thin film growth. Thin Solid Films 722, 138574 (2021)
Frank, A.; Dias, M.; Hieke, S. W.; Kruth, A.; Scheu, C.: Electron microscopic investigation of the influence of plasma parameters on VOx films deposited by a plasma ion assisted process. E-MRS 2019 Spring Meeting, Nice, France (2019)
Alexander von Humboldt-Stiftung ehrt Professor Bin Wang und fördert seine Zusammenarbeit mit dem Düsseldorfer Max-Planck-Institut für Nachhaltige Materialien
Festakt am 16. April mit Ina Brandes, Ministerin für Kultur und Wissenschaft des Landes Nordrhein-Westfalen, Düsseldorfs Oberbürgermeister Stephan Keller und Präsident der Max-Planck-Gesellschaft Patrick Cramer