Frank, A.; Dias, M.; Hieke, S. W.; Kruth, A.; Scheu, C.: Spontaneous fluctuations in a plasma ion assisted deposition – correlation between deposition conditions and vanadium oxide thin film growth. Thin Solid Films 722, 138574 (2021)
Frank, A.; Dias, M.; Hieke, S. W.; Kruth, A.; Scheu, C.: Electron microscopic investigation of the influence of plasma parameters on VOx films deposited by a plasma ion assisted process. E-MRS 2019 Spring Meeting, Nice, France (2019)
Wissenschaftler des Max-Planck-Instituts für Eisenforschung entwickeln ein neues maschinelles Lernmodell für korrosionsresistente Legierungen. Und veröffentlichen ihre Ergebnisse in der Fachzeitschrift Science Advances
Düsseldorfer Max-Planck-Wissenschaftler diskutieren den Einsatz künstlicher Intelligenz in der Materialwissenschaft und veröffentlichen Review-Artikel in der Fachzeitschrift Nature Computational Science