Frank, A.; Dias, M.; Hieke, S. W.; Kruth, A.; Scheu, C.: Spontaneous fluctuations in a plasma ion assisted deposition – correlation between deposition conditions and vanadium oxide thin film growth. Thin Solid Films 722, 138574 (2021)
Frank, A.; Dias, M.; Hieke, S. W.; Kruth, A.; Scheu, C.: Electron microscopic investigation of the influence of plasma parameters on VOx films deposited by a plasma ion assisted process. E-MRS 2019 Spring Meeting, Nice, France (2019)
Festakt am 16. April mit Ina Brandes, Ministerin für Kultur und Wissenschaft des Landes Nordrhein-Westfalen, Düsseldorfs Oberbürgermeister Stephan Keller und Präsident der Max-Planck-Gesellschaft Patrick Cramer
Drei neue Gruppenleiter am Max-Planck-Institut für Eisenforschung entwickeln verbesserte Batteriematerialien durch experimentelle und theoretische Methoden
Neues Video erklärt wie Ammoniak die Speicherung und den Transport von Wasserstoff erleichtert und zur Produktion von grünem Stahl verwendet werden kann